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SiCMOSFET與SiMOSFET性?xún)r(jià)比孰高孰低?比比看

發(fā)布時(shí)間:2015-10-23 責(zé)任編輯:echolady

【導(dǎo)讀】SiCMOSFET與SiMOSFET各有其優(yōu)勢(shì),SiMOSFET管的輸出阻抗高,反向耐壓提高,通態(tài)電阻隨之上升,有效限制了高壓場(chǎng)合的應(yīng)用。SiCMOSFET管的阻斷電壓高,工作頻率高,且耐高溫,這兩種MOSFET管隔油器優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)和應(yīng)用的場(chǎng)合,本文就詳細(xì)講述SiMOSFET管和SiCMOSFET管的性?xún)r(jià)比哪個(gè)高。

SiC與Si性能對(duì)比

簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō),SiC主要在以下3個(gè)方面具有明顯的優(yōu)勢(shì)為:擊穿電壓強(qiáng)度高(10倍于Si),更寬的能帶隙(3倍于Si),熱導(dǎo)率高(3倍于Si),這些特性使得SiC器件更適合應(yīng)用在高功率密度、高開(kāi)關(guān)頻率的場(chǎng)合。

SiCMOSFET性能明顯優(yōu)于SiMOSFET

1.極其低的導(dǎo)通電阻RDS(ON),導(dǎo)致了極其優(yōu)越的正向壓降和導(dǎo)通損耗,更能適應(yīng)高溫環(huán)境下工作。

2.SiCMOSFET管具有SiMOSFET管的輸入特性,即相當(dāng)?shù)偷臇艠O電荷,導(dǎo)致性能卓越的切換速率。

3.寬禁帶寬度材料,具有相當(dāng)?shù)偷穆╇娏鳎苓m應(yīng)高電壓的環(huán)境應(yīng)用。

SiCMOSFET與SiMOSFET在設(shè)備中應(yīng)用對(duì)比

現(xiàn)代工業(yè)對(duì)電力電子設(shè)備提出了許多新的要求,要求體積小、功率大、發(fā)熱量小、設(shè)備輕便等。面對(duì)這些新要求,SiMOSFET一籌莫展,而SiCMOSFET就開(kāi)始大顯身手了。通過(guò)對(duì)SiCMOSFET管與SiMOSFET管相關(guān)電氣參數(shù)進(jìn)行比較,我們可以肯定SiCMOSFET將成為高壓高頻場(chǎng)合中應(yīng)用的主流器件,可謂應(yīng)用SiCMOSFET者得天下。

SiC MOSFET與Si MOSFET性?xún)r(jià)比
圖1:SiCMOSFET與SiMOSFET在設(shè)備中應(yīng)用的對(duì)比圖

低電阻特性,SiC具有低電阻特性,在同等電壓和電流等級(jí)的MOSFET中,SiCMOSFET的內(nèi)阻要幾倍小于SiMOSFET的內(nèi)阻,且SiC的模塊體積小型化,有利于增加系統(tǒng)功率密度。

高速工作特性,SiCMOSFET相對(duì)于SiMOSFET具有更高頻率的工作特性,使系統(tǒng)中的電容電感器件體積小型化,減小系統(tǒng)整體體積,同時(shí)也降低了生產(chǎn)加工成本。

高溫工作特性,SiCMOSFET比SiMOSFET更適合應(yīng)用于高溫工作環(huán)境,原因在于一方面SiCMOSFET自身?yè)p耗小,發(fā)熱量小,自身溫升相對(duì)較小,另一方面,熱導(dǎo)率高3倍于SiMOSFET。

SiC MOSFET與Si MOSFET性?xún)r(jià)比
圖2:SiC與Si性?xún)r(jià)比對(duì)照?qǐng)D

有了以上特性對(duì)比結(jié)果,我們可以清楚的認(rèn)識(shí)到SiCMOSFET性能全面優(yōu)于SiMOSFET。雖然單個(gè)SiCMOSFET價(jià)格高于SiMOSFET,

但是應(yīng)用了SiCMOSFET的系統(tǒng)設(shè)備整體價(jià)格低于應(yīng)用SiMOSFET的設(shè)備,原因在于SiCMOSFET各項(xiàng)優(yōu)秀性能使得設(shè)備中的電容容值減小、電感降低、散熱片面積和體積減少以及設(shè)備整體體積和成本明顯減小。歡迎撥打世強(qiáng)服務(wù)熱線電話(huà)40088-73266獲得專(zhuān)業(yè)快捷的服務(wù)!

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